鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國產(chǎn)單道掃描ICP進(jìn)入固態(tài)光源時代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Plasma 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動負(fù)載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性的測試，具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設(shè)計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設(shè)計，快速定位，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機(jī)模式，待機(jī)時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節(jié)約使用成本。

實時監(jiān)控儀器運行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。

 

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀，是國產(chǎn)全譜ICP光譜儀革命性產(chǎn)品，曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會“自主金獎”等一系列榮譽，在業(yè)界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業(yè)設(shè)計，優(yōu)異穩(wěn)定的測試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經(jīng)驗。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，徑向觀測，具有穩(wěn)健的檢測能力。

2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

3、 高速面陣CCD采集技術(shù)，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實現(xiàn)“全譜直讀”。

4、 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng)，簡化分析方法的開發(fā)過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

可廣泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

鋼研納克 Plasma2000型全譜等離子體光譜儀

2015年10月14日，中國分析測試協(xié)會組織在北京對鋼研納克檢測技術(shù)有限公司的“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”3項成果進(jìn)行了鑒定。本次鑒定組成員包括：清華大學(xué)張新榮、中國分析測試協(xié)會張渝英、中國分析測試協(xié)會汪正范研究員、科學(xué)儀器研究中心于科岐研究員、北分瑞利儀器有限公司章詒學(xué)、北京科技大學(xué)劉杰民。鋼研納克檢測技術(shù)有限公司賈云?？偨?jīng)理、技術(shù)中心沈?qū)W靜、項目負(fù)責(zé)人及項目骨干出席本次鑒定會。

本次鑒定會由鑒定組組長張新榮主持，項目組向組成員詳細(xì)匯報了成果情況，組審議了成果研制報告、成果查新報告、檢驗報告和用戶報告等項目鑒定資料，并觀看了儀器現(xiàn)場操作演示，進(jìn)行了質(zhì)詢。在此基礎(chǔ)上，們進(jìn)行了認(rèn)真討論，一致同意并通過了“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀”的儀器鑒定。

鑒定結(jié)論如下：

“Plasma2000型全譜等離子體光譜儀” 技術(shù)指標(biāo)達(dá)到：波長范圍：165~900nm；200nm處分辨率0.007nm；自主研發(fā)固態(tài)射頻發(fā)生器，功率范圍800W~1600W，連續(xù)1瓦可調(diào)，功率穩(wěn)定性優(yōu)于0.1%，具有自動匹配調(diào)諧功能；軟件一鍵點火，電路具有全自動保護(hù)功能；具有儀器參數(shù)自動優(yōu)化功能；具有激光剝蝕進(jìn)樣系統(tǒng)接口，可配備有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)、高鹽和耐進(jìn)樣系統(tǒng)，可使用有機(jī)進(jìn)樣系統(tǒng)直接測試油品。具有（1）成功攻克了固態(tài)射頻發(fā)生器、高分辨二維全譜光譜系統(tǒng)等關(guān)鍵技術(shù)；（2）自主研發(fā)的高分辨率二維分光系統(tǒng)，無需切換光路，一次曝光即可獲取全部譜線數(shù)據(jù)；（3）建立了多種樣品分析的方法數(shù)據(jù)庫等點。該儀器技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國內(nèi)同類產(chǎn)品水平，已實現(xiàn)銷售，具有良好市場前景。

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草ICP-AES國家標(biāo)準(zhǔn)

鋼研納克擬負(fù)責(zé)起草《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家標(biāo)準(zhǔn)

儀器信息網(wǎng)訊 2014年10月28日，國家標(biāo)準(zhǔn)委決定發(fā)布通知對2014年第二批擬立項國家標(biāo)準(zhǔn)項目(見附件)公開征求意見。其中提出將制定《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》國家推薦標(biāo)準(zhǔn)。主管部門為中國機(jī)械工業(yè)聯(lián)合會，歸口單位為國工業(yè)過程測量和控制標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)會，起草單位為鋼研納克檢測技術(shù)有限公司，計劃完成時間為2016年。

《電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀》標(biāo)準(zhǔn)將規(guī)定電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀的術(shù)語與縮略語、分類、要求、試驗方法、檢驗規(guī)則、標(biāo)志、包裝、運輸和貯存。

據(jù)介紹，制定該標(biāo)準(zhǔn)旨在提升我國ICP光譜儀的生產(chǎn)制造規(guī)范性，使儀器性能穩(wěn)定;通過規(guī)范生產(chǎn)提高ICP光譜儀生產(chǎn)企業(yè)準(zhǔn)入門檻，形成具有競爭力的企業(yè)。從而縮小國產(chǎn)儀器同國外儀器的性能差距，提高國產(chǎn)ICP光譜儀的市場占有率。對ICP光譜儀產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有重要和積極的意義。

項目起草單位鋼研納克檢測技術(shù)有限公司研發(fā)生產(chǎn)電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀始于2006年，2009年10月，鋼研納克開發(fā)了單道掃描型ICP-AES Plasma 1000。2014年，鋼研納克推出了 Plasma2000型全譜電感耦合等離子體光譜儀，采用中階梯光柵光學(xué)結(jié)構(gòu)和科研級CCD檢測器實現(xiàn)全譜采集，該儀器是鋼研納克“國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項”成果。