硫酸含量在180~240g/L之間，硫酸銅含量在75g/L左右，鍍液中存在微量氯離子，可作為輔助光亮劑和銅光亮劑發(fā)揮光澤作用。銅光亮劑的加入量為3/5ml/L，加銅光亮劑時(shí)通常采用千安培法，或根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)板的效果，計(jì)算出全板電鍍的電流一般為2A/2分米乘以紙板上電鍍面積，銅缸溫度一般控制在22°32度。

我國(guó)作為電鍍大國(guó)，各種先進(jìn)技術(shù)都有體現(xiàn)。真空電鍍工作有著寬廣的展開(kāi)前景。未來(lái)我國(guó)電鍍工作將向以下四個(gè)方向展開(kāi)：一、傳統(tǒng)裝修性電鍍將被噴涂、物相堆積等代替，功能性電鍍產(chǎn)品需求則有上升的趨勢(shì)；二、某些污染嚴(yán)峻的電鍍工藝將被清潔的電鍍工業(yè)所代替；三、部分性能好、無(wú)污染的表面工程的高新技術(shù)將進(jìn)入我國(guó)商場(chǎng)。四、隨著轎車(chē)、電子、家用電器、航空、航天工業(yè)、建筑工業(yè)及相應(yīng)的裝修工業(yè)的展開(kāi)以及人們對(duì)美化日子需求的不斷提高,對(duì)真空電鍍產(chǎn)品的裝修性和抗蝕性的需求將明顯增加。

1)、場(chǎng)致發(fā)射--通過(guò)機(jī)械磨光和洗凈的電極雙面，微觀上依然存在高低不平，存在許多微米級(jí)的尖峰杰出物，尖峰處的部分電場(chǎng)或許添加上百倍，會(huì)發(fā)射電子流。假設(shè)電極外表有雜質(zhì)或氧化物存在，電極外表的逸出功會(huì)下降，場(chǎng)致發(fā)射更易產(chǎn)生。尖峰發(fā)射的電子流雖不大，但因其面積小，電流密度卻很大，會(huì)使部分發(fā)熱，不只電子發(fā)射增強(qiáng)，還或許產(chǎn)生蒸騰、熔化，開(kāi)釋出金屬蒸氣，金屬原子又與發(fā)射電子磕碰構(gòu)成游離，呈現(xiàn)擊穿。2)、微粒碰擊--電極外表老是存在一些金屬微粒，微粒在電場(chǎng)效果下帶著電荷脫離電極，加快碰擊對(duì)方電極，由動(dòng)能轉(zhuǎn)為熱能，致使部分加熱、汽化，開(kāi)釋許多金屬蒸氣，構(gòu)成金屬云，致使空位擊穿。