離子屬刻蝕機的注意事項

創(chuàng)世威納——專業(yè)離子束刻蝕機供應商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

#.在設備工作時,禁止扶、靠設備，禁止觸摸高頻電纜和線圈，以免發(fā)生意外

#.高頻電源實際使用功率不能超過較大限制#.檢查設備時，必須關機后切斷電源

#. 工作場地必須保持清潔、干燥，設備上及設備周圍不得放置無關物品，特別是易1燃、易1爆物品

#.長期停放時注意防潮，拆除電源進線，每隔3-5天開一次機，保證反應室真空以免被污 染

#.設備停機、過夜也要保持反應室真空，如停機較長時間后再進行刻蝕工藝，需先進行一次空載刻蝕，再刻蝕硅片

刻蝕技術

由于曝光束不同，刻蝕技術可以分為光刻蝕（簡稱光刻）、X射線刻蝕、電子束刻蝕和離子束刻蝕，其中離子束刻蝕具有分辨率高和感光速度快的優(yōu)點，是正在開發(fā)中的新型技術。

北京創(chuàng)世威納以誠信為首 ,服務至上為宗旨。公司生產(chǎn)、銷售離子束刻蝕機,公司擁有強大的銷售團隊和經(jīng)營理念。想要了解更多信息，趕快撥打圖片上的熱線電話！

反應性離子刻蝕

以下是創(chuàng)世威納為您一起分享的內(nèi)容，創(chuàng)世威納專業(yè)生產(chǎn)反應性離子刻蝕機，歡迎新老客戶蒞臨。

反應性離子刻蝕 （reaction ionetching；RIE）是制作半導體集成電路的蝕刻工藝之一。在除去不需要的集成電路板上的保護膜時，利用反應性氣體的離子束，切斷保護膜物質(zhì)的化學鍵，使之產(chǎn)生低分子物質(zhì)，揮發(fā)或游離出板面，這樣的方法稱為反應性離子刻蝕。

離子束刻蝕機

離子束技術的應用涉及物理、化學、生物、材料和信息等許多學科的交叉領域。離子束加工在許多精密、關鍵、高附加值的加工模具

等機械零件的生產(chǎn)中得到了廣泛應用。一些國家用于軍事裝備的建設上，如改善蝸輪機主軸承、精密軸承、齒輪、冷凍機閥門和活塞的性能。離子注入半導體摻雜已成為超大規(guī)模集成電路微細加工的關鍵工藝，導致出現(xiàn)了80年代集成電路產(chǎn)業(yè)的騰飛。

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