微弧氧化電源具有單問直流、單向直流脈沖、正反向直流脈沖的多臺(tái)階自動(dòng)恒流控制特點(diǎn)。脈沖幅值連續(xù)可調(diào)、脈沖占空比可調(diào)、頻率可調(diào)。也可通過改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色。介通微弧氧化電源主機(jī)界面良好、可視性強(qiáng)可自動(dòng)存儲(chǔ)、記錄微弧氧化電流、電壓、槽液溫度等實(shí)時(shí)工藝曲線。微弧氧化電源可用于鎂合金、鋁合金、鈦合金等輕金屬的表面氧化處理，使其具有更好的耐磨性、耐腐蝕性。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化

       微弧氧化技術(shù)是在陽(yáng)極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一項(xiàng)新技術(shù)，是在含有特定離子的電解液中，通過弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用，在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù)，膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點(diǎn)。微弧氧化電源可存儲(chǔ)或調(diào)用多套工藝參數(shù)，自動(dòng)化程度高，可大幅度提高工件陽(yáng)極氧化膜層的硬度和氧化膜層的耐蝕性、致密性。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)

陽(yáng)極氧化膜層與微弧氧化膜層的區(qū)別是什么？

       由微弧氧化膜層的生長(zhǎng)機(jī)理可知，陽(yáng)極氧化是微弧氧化的初級(jí)階段。陽(yáng)極氧化發(fā)生的是化學(xué)反應(yīng)，而微弧氧化除化學(xué)反應(yīng)外，還伴隨有電化學(xué)、高溫等離子體等反應(yīng)。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結(jié)合，因此與基體結(jié)合良好。另外，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。微弧氧化采用微弧氧化技術(shù)對(duì)鋁及其合金材料進(jìn)行表面強(qiáng)化處理，具有工藝過程簡(jiǎn)單，占地面積小，處理能力強(qiáng)，生產(chǎn)效率高，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結(jié)合力，膜層內(nèi)部致密性及相結(jié)構(gòu)。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽(yáng)極氧化膜層其它方面的性能差異。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源