1、目的：

　　測量研磨盤的平面度是為了確認(rèn)研磨盤修面后的狀態(tài)，確保研磨盤面形精度能滿足生產(chǎn)工藝需求。研磨盤面形精度不符合要求時(shí)會(huì)導(dǎo)致產(chǎn)品研磨時(shí)受力不均，磨出來的產(chǎn)品出現(xiàn)高低不平等不良現(xiàn)象！測量研磨盤平面度是保證批量生產(chǎn)產(chǎn)品品質(zhì)的重要管控手段之一！

2、適用范圍：

　　適用于市場上現(xiàn)有樹脂銅盤、樹脂鐵盤、合成錫盤、壓鑄盤等研磨盤。

定義：

　　3.1    測量的定義：所謂測量，是指用實(shí)驗(yàn)的方法，將被測量(未知量)與已知的標(biāo)準(zhǔn)量進(jìn)行比較，以得到被測量的具體數(shù)值，達(dá)到對被測量定量認(rèn)識(shí)的過程。

　　3.2    研磨盤平面度：也稱研磨盤面形精度，專業(yè)的叫法叫修面弧度。它并不是越平越好，有些

　　產(chǎn)品需要磨盤平面度好些，有些產(chǎn)品需要一定的修面弧度。這個(gè)跟它的實(shí)際生產(chǎn)工藝相關(guān)。

      所以這是一個(gè)經(jīng)驗(yàn)值。

正確處理研磨的運(yùn)動(dòng)軌跡是提高研磨質(zhì)量的重要條件。在平面研磨中﹐一般要求﹕①工件相對研具的運(yùn)動(dòng)﹐要盡量保證工件上各點(diǎn)的研磨行程長度相近﹔②工件運(yùn)動(dòng)軌跡均勻地遍及整個(gè)研具表面﹐以利于研具均勻磨損﹔③運(yùn)動(dòng)軌跡的曲率變化要小﹐以保證工件運(yùn)動(dòng)平穩(wěn)﹔④工件上任一點(diǎn)的運(yùn)動(dòng)軌跡盡量避免過早出現(xiàn)周期性重復(fù)。為了減少切削熱﹐研磨一般在低壓低速條件下進(jìn)行。

    研磨拋光劑是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，具有良好的去油污、防銹、清洗和增光性能，并能使金屬制品超過原有的光澤。產(chǎn)品性能穩(wěn)定、無毒，對環(huán)境無污染等作用。

  接下來將為大家詳細(xì)介紹幾款常用的光亮劑：

  一、DS-502B環(huán)保通用型光亮劑      光亮劑是專為各類研磨機(jī)、振光機(jī)、高速離心機(jī)、渦流機(jī)、滾筒、各類光飾機(jī)拋光各種材質(zhì)加工，配合各種研磨石、、軟化工件表面以加速磨削，減少研磨石對工件的碰傷，使工件表面達(dá)到理想的光澤度。      產(chǎn)品配合各種研磨石、、拋光、軟化工件表面以加速磨削，減少研磨對工件的碰傷，使工件表面達(dá)到理想光澤度，對鋁合金、銅、銅合金、鋅合金、不銹鋼、鋁制品等表面拋光有顯著效果。