許多人雖然聽說過蝕刻機(jī)，卻不知道它屬于什么樣的設(shè)備，又有著哪一些用途，因此需要購買的時(shí)候，通常會(huì)感到非常茫然，就算將設(shè)備成功買回來了，也不知道正確的操作方法是什么，更別說其他的細(xì)節(jié)問題了，由于很多朋友不知道合適的工作溫度是什么樣的，所以接下來就會(huì)進(jìn)行介紹。    1、溫度不宜過高    有的朋友不夠了解，因此施工時(shí)會(huì)刻意調(diào)高溫度，以為這樣可以讓蝕刻機(jī)的工作效率變得更高，達(dá)到更理想的蝕刻效果，實(shí)際上卻不是這樣，過高的溫度只會(huì)帶來損壞或是腐蝕問題，甚至?xí)?dǎo)致無法蝕刻成功的情況出現(xiàn)，應(yīng)該要避免這么做。    2、這樣的溫度zui合適    既然工作溫度不能過高，那么什么樣的溫度才是zui合適的呢？不論是什么型號(hào)的蝕刻機(jī)，都要確保溫度保持在三十八度到五十度之間，如果是非自動(dòng)的型號(hào)，需要人工進(jìn)行調(diào)節(jié)，而能夠自動(dòng)加熱的型號(hào)就可以省去這個(gè)麻煩了。




zui近光刻機(jī)和蝕刻機(jī)一直都是當(dāng)前zui熱的話題，可以說光刻機(jī)是芯片制造的魂，蝕刻機(jī)是芯片制造的魄，要想制造的芯片，這兩個(gè)東西都必須。    這倆機(jī)器zui簡(jiǎn)單的解釋就是光刻機(jī)把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面，刻蝕機(jī)再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉，這樣看起來似乎沒什么難的，但是有一個(gè)形象的比喻，每一塊芯片上面的電路結(jié)構(gòu)放大無數(shù)倍來看比整個(gè)北京都復(fù)雜，這就是這光刻和蝕刻的難度。    光刻的過程就是現(xiàn)在制作好的硅圓表面涂上一層光刻膠（一種可以被光腐蝕的膠狀物質(zhì)），接下來通過光線（工藝難度紫外光＜深紫外光＜極紫外光）透過掩膜照射到硅圓表面（類似投影），因?yàn)楣饪棠z的覆蓋，照射到的部分被腐蝕掉，沒有光照的部分被留下來，這部分便是需要的電路結(jié)構(gòu)。    蝕刻分為兩種，一種是干刻，一種是濕刻（目前主流），顧名思義，濕刻就是過程中有水加入，將上面經(jīng)過光刻的晶圓與特定的化學(xué)溶液反應(yīng)，去掉不需要的部分，剩下的便是電路結(jié)構(gòu)了，干刻目前還沒有實(shí)現(xiàn)商業(yè)量產(chǎn)，其原理是通過等離子體代替化學(xué)溶液，去除不需要的硅圓部分。

什么是蝕刻機(jī)

或許在很多人看來，刻蝕技術(shù)并不如光刻機(jī)那般“”，但刻蝕在芯片的加工和生產(chǎn)過程中同樣不可或缺?？涛g機(jī)主要工作是按照前段光刻機(jī)“描繪”出來的線路來對(duì)晶片進(jìn)行更深入的微觀雕刻，刻出溝槽或接觸孔，然后除去表面的光刻膠，從而形成刻蝕線路圖案。

在芯片制造領(lǐng)域，光刻機(jī)像是前端，而蝕刻機(jī)就是后端。光刻機(jī)的作用是把電路圖描繪至覆蓋有光刻膠的硅片上，而蝕刻機(jī)的作用就是按照光刻機(jī)描繪的電路圖把硅片上其它不需要的光刻膠腐蝕去除，完成電路圖的雕刻轉(zhuǎn)移至硅片表面。兩者一個(gè)是設(shè)計(jì)者，一個(gè)是執(zhí)行者，整個(gè)芯片生產(chǎn)過程中，需要重復(fù)使用兩種設(shè)備，直至將完整的電路圖蝕刻到硅晶圓上為止。

目前，我國在蝕刻機(jī)領(lǐng)域已達(dá)到世界先進(jìn)水平，尤其是中微半導(dǎo)體成功突破研制的5nm蝕刻機(jī)已于其它企業(yè)，而且得到了臺(tái)積電的驗(yàn)證。真正面臨技術(shù)挑戰(zhàn)，也是被卡脖子的領(lǐng)域是光刻機(jī)。不過日前中科院院長(zhǎng)白春禮表示，已將光刻機(jī)等技術(shù)難度較高的產(chǎn)品列入科研清單，未來將集中力量對(duì)這些“卡脖子”的技術(shù)進(jìn)行攻關(guān)。相信未來光刻機(jī)技術(shù)也會(huì)實(shí)現(xiàn)重大突破。