雙靶磁控濺射鍍膜機(jī)的特點(diǎn)有哪些？

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品，以下信息由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供。

產(chǎn)品特點(diǎn)

1：此款鍍膜儀配置有兩個(gè)靶槍：一個(gè)靶槍配套的是射頻電源，用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜；一個(gè)靶槍配套的是直流電源，用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜

2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應(yīng)用非常廣泛。

3：該鍍膜儀體積較小，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。

自動磁控濺射系鍍膜機(jī)介紹

以下內(nèi)容由沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，希望對同行業(yè)的朋友有所幫助。

自動磁控濺射系統(tǒng)選配項(xiàng)：

RF、DC濺射

熱蒸鍍能力

RF或DC偏壓（1000V）

樣品臺可加熱到700°C

膜厚監(jiān)測儀

基片的RF射頻等離子清洗

應(yīng)用：

晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆

光學(xué)以及ITO涂覆

帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

帶RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射

小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)簡介

小型磁控濺射鍍膜系統(tǒng)適合于快速濺射鍍膜科研、教學(xué)與小批量打樣，可快速、低成本的制備多種微納米厚度的膜層。

具有一體化、占用空間小、靈活的特點(diǎn)，無需380V工業(yè)電，無需額外冷水機(jī)，采用無油干泵分子泵組，無需操心真空系統(tǒng)和操作間環(huán)境泵油污染。

保證設(shè)備具有優(yōu)異的質(zhì)量與穩(wěn)定可靠性。觸摸屏控制界面，帶來簡單、操作方便的體驗(yàn)。

想要了解更多沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司的相關(guān)信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

磁控濺射鍍膜機(jī)導(dǎo)致不均勻因素哪些？

想要了解更多磁控濺射產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容，請及時(shí)關(guān)注沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司網(wǎng)站。

原理上講，兩點(diǎn)：氣場和磁場

磁控濺射在0.4Pa的氣壓情況下離子撞擊靶材，濺射出粒子沉積到基材上，整體靶材的電壓幾乎一致，不影響濺射速率。

0.4Pa的氣場情況是濺射速率較高的情況，氣場變化，壓強(qiáng)變大和變小都會影響濺射速率。

磁場大，束縛的自由電子增多，濺射速率增大，磁場小，束縛的自由電子就少，濺射速率降低。

穩(wěn)定住氣場和磁場，濺射速率也將隨之穩(wěn)定。

在實(shí)際情況下，氣場穩(wěn)定，需要設(shè)計(jì)布?xì)庀到y(tǒng)，將布?xì)庀到y(tǒng)分級布置，保障鍍膜機(jī)腔體內(nèi)不同位置的進(jìn)氣量相同，同時(shí)，布?xì)庀到y(tǒng)、靶材、基材等要遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)的抽氣口。需要穩(wěn)定磁場，用高斯計(jì)測量靶材表面磁場強(qiáng)度，由于磁場線本身是閉合曲線，靶材磁場回路兩端磁場強(qiáng)度自然比中間位置強(qiáng)，可以選擇用弱磁鐵，同時(shí)，基材要避開無法調(diào)整的磁場變化較大的部分。1-10Pa的氣或其它惰性氣體，在陰極（靶）1-3KV直流負(fù)高壓或13。

另外，在設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方面，磁控濺射過程中，需要基材與靶材保持同軸，如果旋轉(zhuǎn)、直線運(yùn)行的話，也要同軸旋轉(zhuǎn)、直線運(yùn)行。