離子鍍膜設(shè)備的操作規(guī)范是怎樣的?

離子鍍膜設(shè)備的操作規(guī)范是怎樣的？ 1、設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應(yīng)符合GB/T6070的規(guī)定。 2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)安裝真空測(cè)量規(guī)管，分別測(cè)量各部位的真空度。當(dāng)發(fā)現(xiàn)電場(chǎng)對(duì)測(cè)量造成干擾時(shí)，應(yīng)在測(cè)量口處安裝電場(chǎng)屏蔽裝置。 3、如果設(shè)備使用的主泵為擴(kuò)散泵時(shí)，應(yīng)在泵的進(jìn)氣口一側(cè)裝設(shè)有油蒸捕集阱 4、設(shè)備的鍍膜室應(yīng)設(shè)有觀察窗，應(yīng)設(shè)有擋板裝置。觀察窗應(yīng)能觀察到沉積源的工作情況以及其他關(guān)鍵部位。 5、離子鍍沉積源的設(shè)計(jì)應(yīng)盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。 6、合理布置加熱裝置，一般加熱器結(jié)構(gòu)布局應(yīng)使被鍍工件溫升均勻一致。 7、工件架應(yīng)與真空室體絕緣，工件架的設(shè)計(jì)應(yīng)使工件膜層均勻。 8、離子鍍膜設(shè)備一般應(yīng)具有工件負(fù)偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應(yīng)具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。

光學(xué)鍍膜機(jī)的應(yīng)用及應(yīng)用

光學(xué)鍍膜機(jī)的應(yīng)用 光學(xué)鍍膜機(jī)可鍍制層數(shù)較多的短波通、長(zhǎng)波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質(zhì)膜、高反膜、彩色反射膜等各種膜系，能夠?qū)崿F(xiàn)0-99層膜的膜系鍍膜，也能滿足如汽車反光玻璃、望遠(yuǎn)鏡、眼鏡片、光學(xué)鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。配置不同的蒸發(fā)源、電子槍和離子源及膜厚儀可鍍多種膜系，對(duì)金屬、氧化物、化合物及其他高熔點(diǎn)膜材皆可蒸鍍，并可在玻璃表面超硬鍍膜。 光學(xué)鍍膜機(jī)應(yīng)用于觸控面板抗指紋玻璃及金屬防指紋，除了防指紋應(yīng)用外，還可應(yīng)用于防銹、防污、保護(hù)納米鍍膜。防污膜(AS)，又稱防水膜或防指紋(AF膜)，主要是通過真空鍍膜的技術(shù)將有機(jī)氟化物材料沉積到基材上，使基材表面具有防水、防油、防指紋、防污染等功能。

真空鍍膜設(shè)備的工作離不開相應(yīng)的監(jiān)測(cè)

真空鍍膜設(shè)備的工作離不開相應(yīng)的監(jiān)測(cè)，那么如何監(jiān)測(cè)呢？下面一起來看看吧。 1.目視監(jiān)控使用雙眼監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ诔砷L(zhǎng)的過程中，因?yàn)楦缮娆F(xiàn)象會(huì)有色彩改變，我們即是依據(jù)色彩改變來操控膜厚度的，此種辦法有必定的差錯(cuò)，所以不是很，需求依托經(jīng)歷。 2.定值監(jiān)控法此辦法使用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長(zhǎng)四分之一波位，然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長(zhǎng)一時(shí)總膜厚之反射率是多少，此即為中止鍍膜點(diǎn)。 3.水晶振動(dòng)監(jiān)控使用石英晶體振動(dòng)頻率與其質(zhì)量成反比的原理工作的?？墒鞘⒈O(jiān)控有一個(gè)欠好的地方即是當(dāng)膜厚添加到必定厚度后，振動(dòng)頻率不全然因?yàn)槭⒆陨淼奶匦允购穸扰c頻率之間有線性關(guān)系，此刻有必要使用新的石英振動(dòng)片。 4.極值監(jiān)控法當(dāng)膜厚度添加的時(shí)候其反射率和穿透率會(huì)跟著起改變，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時(shí)候，就能夠知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長(zhǎng)（入）的四分之一的整倍數(shù)?？墒菢O值的辦法差錯(cuò)對(duì)比大，因?yàn)楫?dāng)反射率或許透過率在極值鄰近改變很慢，亦即是膜厚ND添加許多，R/T才有改變。反映對(duì)比的方位在八分之一波利益。