溫度對微弧氧化的影響

       微弧氧化與陽極氧化不同，所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高，成膜越快，但粗糙度也增加。且溫度高，會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化過程中工件表面具有較高的氧化電壓并通過較大的電解電流，使產生的熱量大部分集中于膜層界面處，而影響所形成膜層的質量，因此微弧氧化必須使用配套的熱交換制冷設備，使電解液及時冷卻，保證微弧氧化在設置的溫度范圍內進行。由于微弧氧化以熱能形式釋放，所以液體溫度上升較快，微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統(tǒng)以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化電源

微弧氧化抹的特點

       微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高，耐蝕性強，絕緣性好，膜層與基底金屬結合力強，并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化的合適放電區(qū)間較窄，要求對放電后的電參數(shù)控制比較好，大電流、高電壓對供電電源提出了高要求，由于對微弧氧化本質認識限制，使得電源的設計及制造仍停留在經驗摸索層面上，帶有很大的盲目性。鋁合金微弧氧化又稱等離子體微弧氧化，等離子體陶瓷化或火花放電沉積技術。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

微弧氧化技術的特點

1、微弧氧化采用弱堿性溶液，對周圍環(huán)境不造成污染，屬于清潔加工工藝和環(huán)保型表面處理技術，微弧氧化中只放出氫氣、氧氣，對人體無害。

2、工藝簡單，特別對于工業(yè)樣品的預處理不像陽極氧化要求的那樣嚴格和繁雜，只要求樣品表面去污去油，不需要去除表面的自然氧化層，也不需要表面打磨。微弧氧化技術、微弧氧化工藝、微弧氧化電源、微弧氧化生產線

微弧氧化工藝研究

        微弧氧化的工藝研究主要集中在電流密度、電解液組成、電源模式、基材成分等工藝因素對氧化膜的厚度、結構與性能的影響方面。 指出，電流密度對微弧氧化膜厚度有著決定性影響。2、隨著氧化時間的增加，工業(yè)鋁型材表面微孔密度降低，但粗糙度變大。在含有濃度6%水玻璃的電解液中，使用工業(yè)交流電源，對兒種不同鋁合金，依零件的不同幾何形狀和尺寸，電流密度在1--50A / cm2范圍內，經60次微弧氧化實驗的結果表明，形成的氧化膜厚度與電流密度成線性關系。