真空鍍膜加工對于 高度不穩(wěn)定的、對水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。對經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛 氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至。因為這些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩?

 真空鍍膜加工清除鍍膜室內(nèi)的灰塵，設(shè)置清潔度高的工 作間，保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求。空氣濕度大的地區(qū)，除鍍前要對基片、真空室內(nèi)各部 件認(rèn)真清洗外，還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi)，注意油擴(kuò)散泵返油，對加熱功率高的擴(kuò)散泵必須 采取擋油措施。

真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法，使物體表面獲得所需的涂層，目前已被廣泛應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域。真空鍍膜技術(shù)也是PVD涂層的常用制備方法，如真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法（PVD），是基本的涂層制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。

真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi)，采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發(fā)或升華，并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。

在真空條件下成膜有很多優(yōu)點：可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞，減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)（如氧化等），以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄膜中成為雜質(zhì)的量，從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與基板的附著力。

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鍍膜技術(shù)都需要一個特定的真空環(huán)境。薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。在真空鍍膜加工方面，通常對蒸發(fā)源應(yīng)考慮蒸發(fā)源的材料和形狀。特種燈具反光杯廠家加工