感應耦合等離子體刻蝕機的結構一

預真空室預真空室的作用是確?？涛g腔內維持在設定的真空度，不受外界環(huán)境（如：粉塵、水汽）的影響，將危險性氣體與潔凈廠房隔離開來。它由蓋板、機械手、傳動機構、隔離門等組成。

以上就是為大家介紹的全部內容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多感應耦合等離子體刻蝕的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。

感應耦合等離子體刻蝕機的結構三

創(chuàng)世威納專業(yè)生產(chǎn)、銷售感應耦合等離子體刻蝕，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

供氣系統(tǒng)供氣系統(tǒng)是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體，通過壓力控制器（PC）和質量流量控制器（MFC）精準的控制氣體的流速和流量。氣體供應系統(tǒng)由氣源瓶、氣體輸送管道、控制系統(tǒng)、混合單元等組成。

以上就是關于感應耦合等離子體刻蝕的相關內容介紹，如有需求，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

等離子刻蝕工藝

等離子體刻蝕分為兩個過程：首先，等離子體中產(chǎn)生化學活性組分；其次，這些活性組分與固體材料發(fā)生反應，形成揮發(fā)性化合物，從表面擴散排走。例如，CF4離解產(chǎn)生的F，與S反應生成SiF4氣體，結果是在含Si材料的表面形成了微觀銑削結構。等離子體刻蝕是一個通用術語，包括離子刻蝕、濺射刻蝕以及等離子體灰化等過程。

基底和工藝參數(shù)決定了表面改性的類型，基底溫度、處理時間和材料擴散特性決定了改性深度。等離子體僅能在表面刻蝕幾個微米的深度，改性后的表面特性發(fā)生了改變，但大部分材料的特性仍能得以保持。這項技術還可以用于表面清洗、固話、粗化、改變親水性及粘結性等，同樣也可以使電子顯微鏡下觀察的樣品變薄以及應用于半導體集成電路的制造過程中。在化學濺射中會發(fā)生反應并產(chǎn)生揮發(fā)性產(chǎn)物。常用的氣體包括Ar、He、O2、H2、H2O、CO2、Cl2、F2和有機蒸氣等。與存在化學反應的等離子體濺射相比，惰性離子濺射更像是一個物理過程。

想要了解更多感應耦合等離子體刻蝕的相關內容，請及時關注創(chuàng)世威納網(wǎng)站。