日照微弧氧化技術(shù)有限公司為你您講解微弧氧化先關(guān)內(nèi)容。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、鋁合金微弧氧化、鎂合金微弧氧化、鈦合金微弧氧化。微弧氧化多孔層可作為頂漆的攜帶層，這樣既可滿足必要的硬度和負(fù)載要求，又可作為基體金屬的一個(gè)強(qiáng)有力的防護(hù)屏障，同時(shí)還保證表面復(fù)合物材料對于基體良好的粘合性。另外，也可用PVD、CVD和溶膠凝膠等對微弧氧化膜層進(jìn)行封孔處理，提高膜層的致密度和表面光潔度。日照微弧氧化電源、微弧氧化、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化技術(shù)

微弧氧化工藝的整流電源特點(diǎn)：

操作方式:本控遠(yuǎn)控操作模式可選擇;

輸出控制方式:直流、單極脈沖或雙極脈沖輸出控制模式可選擇

恒流恒壓、恒功率三種控制模式可選擇

軟啟動時(shí)間:軟啟動工作時(shí)間可在0-2005范圍內(nèi)整定

整流方式:IGBT逆變軟開關(guān)整流,PWM脈沖步調(diào)制IGBT斬波

脈沖步調(diào)頻率范圍:1000-8000Hz;

人機(jī)操作界面:PLC彩色觸摸屏

主控制器：微弧氧化電源DSP微機(jī)數(shù)字觸發(fā)控制,PWM脈寬調(diào)節(jié)控制,脈沖移相分辨率≤1μ。

微弧氧化膜層的性能能夠達(dá)到何種程度？

       一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內(nèi)部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結(jié)合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因?yàn)閺纳晌飦砜?，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鋁表面氧化膜硬度高可以達(dá)到HV3000。微弧氧化技術(shù)是指在普通陽極氧化的基礎(chǔ)上，利用電化學(xué)手段，通過等離子體微孤的高溫高壓作用，在陽極上發(fā)生的反應(yīng)，從而使鋁（鎂、鈦、鋯等）合金表面發(fā)生相和結(jié)構(gòu)的變化，改善合金的耐磨、耐蝕性能和電特性、抗高溫沖擊特性。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結(jié)合力，對膜層整體性能不利。因此，一般很少單獨(dú)強(qiáng)調(diào)某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調(diào)制，在滿足特殊需求的基礎(chǔ)上使膜層整體具有良好性能。如，某鎂合金需要耐蝕，可以根據(jù)需求對膜層厚度、溶液成分等進(jìn)行調(diào)制，滿足耐蝕400小時(shí)、600小時(shí)等特殊需求。