化學(xué)拋光的原理：金屬試樣表面各組成相的電化學(xué)電位不同，形成了許多微電勢，在化學(xué)溶液中會產(chǎn)生不均勻溶解。在溶解過程中試樣面表層會產(chǎn)生一層氧化膜，試樣表面凸出部分由于粘膜薄，金屬的溶解擴展速度較慢，拋光后的表面光滑，但形成有小的起伏波形，不能達(dá)到十分理想的要求。

在化學(xué)拋光過程中，金屬零件表面不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜不斷溶解，且前者要強于后者。由于零件表面微觀的不一致性，表面微觀凸起部位優(yōu)先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率；而且膜的溶解和膜的形成始終同時進行，只是其速率有差異，結(jié)果使金屬零件表面粗糙度得以整平，從而獲得平滑光亮的表面?；瘜W(xué)拋光可以填充表面毛孔、劃痕以及其它表面缺陷，從而提高疲勞阻力、腐蝕阻力。

化學(xué)拋光（銅化學(xué)拋光劑）

 機械拋光是利用機械壓力和局部摩擦產(chǎn)生高溫作用而獲得平滑的非晶型面?；瘜W(xué)拋光與機械拋光不同，前者是利用化學(xué)溶液對金屬表面起溶解作用，而這種溶解作用是基于對金屬表面凸起部分溶解速度遠(yuǎn)比凸陷部分快的假設(shè)的基本之上的?；瘜W(xué)拋光比機械拋光相對優(yōu)越，表面在其操作方便、設(shè)備簡單、費用低且節(jié)省電力。

化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點是不需復(fù)雜設(shè)備，可以拋光形狀復(fù)雜的工件，可以同時拋光很多工件，?；瘜W(xué)拋光的核心問題是拋光液的配制?；瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù)10μm。

電化學(xué)拋光的優(yōu)點:

1)微觀整平工件表面，降低表面粗糙度；

2)提高工件表面抗腐蝕性能；

3)處理后的工件表面易清洗，不易結(jié)垃圾和滋生細(xì)菌；

4)內(nèi)外色澤一致，光澤持久，機械拋光無法拋到的凹處也可整平；

5)生產(chǎn)，加工成本低；

6)可發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品表面隱藏的缺陷；

7)可去除零件表面的毛刺；

8)不產(chǎn)生拜爾培層。

化學(xué)拋光是一種將金相樣品浸入調(diào)配的化學(xué)拋光液中，借化學(xué)藥劑的溶解作用而得到的拋光表面的拋光方法?；瘜W(xué)拋光是常見的金相樣品拋光方法之一，這種方法操作簡便，不需任何儀器設(shè)備，只需要選擇適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)拋光液和掌握佳的拋光規(guī)范，就能快速得到較理想的光潔而無變形層的表面。