真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。在涂層前一定要清洗產(chǎn)品，避免污染產(chǎn)品，確保表面的清潔度。

真空電鍍的簡單作用過程：真空電鍍接通蒸發(fā)源交流電源，真空電鍍蒸發(fā)料粒子熔化蒸發(fā)，真空電鍍進入輝光放電區(qū)并被電離。真空電鍍帶正電荷的蒸發(fā)料離子，陰極吸引下，隨同離子一同沖向工件，真空電鍍當(dāng)拋鍍于工件表面上的蒸發(fā)料離子逾越濺失離子的數(shù)量時，真空電鍍則逐漸堆積形成一層牢固粘附于工件表面的鍍層。

真空鍍膜加工是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。

真空微米涂裝是一種新型的涂裝技術(shù)。真空氣相沉積制程，是在常溫的真空室中，讓活性分子在被涂裝的物件表面生成披覆的聚合物薄膜。 可涂裝到任何形狀的表面，且不產(chǎn)生死角。包括尖銳的錂角隙縫內(nèi)部與極細微的中。膜厚均可達到一致性的被覆在產(chǎn)品的任何部位。 

真空鍍膜加工是保證真空鍍膜鍍膜質(zhì)量的關(guān)鍵。鍍膜操作：待真空鍍膜鍍件上架并裝上鎢絲，然后入爐，檢查接觸是否良好，轉(zhuǎn)動正常，關(guān)真空鍍膜真空室，抽真空。

真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有障礙。

鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。

真空鍍膜的物理過程

基本原理可分為三個工藝步驟：

鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

鍍料粒子在基片表面的沉積

鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。目的是希望減少光的反射，增加透光率，抗紫外線并抑低耀光。此外，可延遲老化、變色的時間。

Parylene是一種保護性高分子材料，中文名，聚對二甲苯，派瑞林它可在真空下氣相沉積，Parylene活性分子的良好穿透力能在元件內(nèi)部、底部，周圍形成無孔，厚度均勻的透明絕緣涂層。

派瑞林鍍膜的保護作用 1、抗酸堿腐蝕,能解決受酸性或堿性物質(zhì)腐蝕的問題。 2、低水、氣體滲透性、具高屏障效果,能達到防潮、防水、防銹及減緩風(fēng)化等作用。