研磨機分為單面和雙面，主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。在拋光過程中少不了一種耗材，那便是拋光盤，拋光盤關(guān)系到工件表面的精度。因此，選用拋光盤有一定的技巧，下面為大家小結(jié)3點。

首先不能使用廢棄且已經(jīng)磨損變形的拋光盤，一些小企業(yè)為了節(jié)省成本就會這樣做。其次盡量使用耐磨性能好的拋光盤，拋光盤的材質(zhì)有多種，不同材質(zhì)的耐磨性能各不相同，選擇材質(zhì)較好的拋光盤，在耐磨損性能方面也有一定的保證。

如果有耐磨性能很好但是稍微出現(xiàn)了磨損，建議采用人工修整拋光盤的平面，這樣可避免耗材的浪費。

立式圓盤砂磨機的介質(zhì)分布不均，磨削效率低，加載困難。優(yōu)點是沒有機械密封，結(jié)構(gòu)簡單。

臥式砂磨機能量密度高，磨缸短，中分離器過濾面積大，物料停留時間短，散熱效果好，磨礦效率較高，產(chǎn)品粒度分布窄。通常用于難以研磨的材料的大流量循環(huán)研磨過程。

立式砂磨機不僅在攪拌軸上有一個銷釘，而且在圓柱體的內(nèi)壁上還裝有一個銷釘棒。高能量密度和高研磨強度。主要用于生產(chǎn)高粘度材料，例如膠印油墨和UV油墨。

平面研磨機和平面拋光機都是表面處理行業(yè)常用到的設(shè)備，雖然這兩者都是適用于平面的工件，但還是有很多不同的，接下來就從以下幾個方面來闡述它們之間的差別。首先是用途上的差別，平面研磨機主要用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。而平面拋光機是處理平面工件的塌邊現(xiàn)象，平滑，斑點，祛除工件表面的劃痕，完成超精密加工使工件表面光滑以達(dá)到鏡面效果。很多對平面研磨機和平面拋光機分不清的朋友看完這篇文章應(yīng)該有所了解，明白這兩者的區(qū)別有哪些。平面研磨機和平面拋光機是表面處理的美化師，為我們呈現(xiàn)眾多不同的表面美觀的工件。