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微弧氧化技術圖片源頭直供廠家

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發(fā)布時間:2020-07-17 06:47  






微弧氧化技術特點

1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔(孔徑為幾微米)、內部致密的陶瓷層。 膜層硬度高(維氏硬度可由幾百至三千左右) 膜層與基體為冶金結合、厚度在幾微米至幾百微米之間。微弧氧化技術、微弧氧化生產線

2、微弧氧化技術絕緣性好耐熱性高,可承受高溫使用,范圍根據(jù)基材熔點溫度 有良好的絕緣性能,絕緣電阻膜阻>100MΩ 絕緣耐壓>5000V/秒。微弧氧化電源、微弧氧化生產工藝


微弧氧化膜的性能特點

1. 硬度極高,可達1500-2000HV.比一般陽極氧化或電鍍處理高許多;

2. 耐磨性極佳;

3. 耐腐蝕性好,耐中性鹽霧可達2000h以上;

4. 絕緣性能良好;

5. 附著力良好,將工件加熱至300℃,立即浸入冷水中,反復數(shù)次都未發(fā)現(xiàn)氧化膜掉落。微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化生產線、微弧氧化電源的好處、微弧氧化廠家


微弧氧化抹的特點

       微弧氧化處理后的鋁基表面陶瓷膜層具有硬度高,耐蝕性強,絕緣性好,膜層與基底金屬結合力強,并具有很好的耐磨和耐熱沖擊等性能。微弧氧化的合適放電區(qū)間較窄,要求對放電后的電參數(shù)控制比較好,大電流、高電壓對供電電源提出了高要求,由于對微弧氧化本質認識限制,使得電源的設計及制造仍停留在經驗摸索層面上,帶有很大的盲目性。2、陰極材料陰極材料可選用不銹鋼,碳鋼,鎳等,可將上述材料懸掛使用或做成陰極槽體。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源




        微弧氧化處理形成的陶瓷氧化膜,與基體呈冶金結合,膜層致密,具有良好的耐磨、耐蝕性能。 氧化膜的硬度一般能達到600-1500HV(膜層厚度20-50μm),耐磨性能優(yōu)于硬質陽極化膜及電鍍硬鉻。封孔后耐鹽霧試驗水平可達2000小時以上。該氧化膜還具有良好的絕緣性,耐500V以上的高壓沖擊,且有效防止電偶腐蝕;氧化膜還具有良好的隔熱特性,是鋁合金活塞的首要選擇。日照微弧氧化技術有限公司專業(yè)從事微弧氧化技術的研發(fā)以及設備的生產銷售,歡迎咨詢訂購。


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