真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有障礙。

鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。

真空鍍膜的物理過程

基本原理可分為三個工藝步驟：

鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞，產(chǎn)生多種反應。

鍍料粒子在基片表面的沉積

真空鍍膜可以使原料具有許多新的、好的物理和分析化學特征。

真空鍍膜是應用物理分析化學方法，在固體表面涂上特征的表面涂層，使固體表面具有耐磨性、耐高溫性、耐腐蝕性、耐氧化性、電磁波輻射性、導電性、吸磁性、電纜護套和設計裝飾性等優(yōu)于固體原料本身的優(yōu)點，提高產(chǎn)品質(zhì)量、提高產(chǎn)品使用期限、節(jié)約能源、獲得顯著性經(jīng)濟效益。派瑞林涂層材料

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量。在進入鍍膜室之前，工件須在鍍膜前仔細清洗。為了避免加工過程中造成的缺陷，真空鍍膜廠家基本上可以通過脫脂或化學清洗的方式去除。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術,在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。派瑞林涂層材料

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料），屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領域。