化學(xué)鍍是利用還原劑把電解質(zhì)溶液中的金屬離子化學(xué)還原在呈活性催化的工件表面沉積出能與基體表面牢固結(jié)合的涂鍍層。

化學(xué)鍍鎳層的物理-機(jī)械性能

化學(xué)鍍層的顯微硬度為350~500千克/_2,并隨P含量升高而升高。熱處理可以提高硬度，并提高耐磨性。一塊電路板的制造不是想象中那么簡(jiǎn)單，我們很多電路板廠在生產(chǎn)時(shí)都會(huì)嚴(yán)格管控。

化學(xué)鍍鎳加工方式得到了廣泛應(yīng)用，是金屬表面處理的主要方式，簡(jiǎn)單方便，節(jié)能減耗，而且鍍層美觀，效果好。但是要注意的是，加工以后要注意對(duì)廢渣廢液進(jìn)行處理，不能直接排放，否則會(huì)污染環(huán)境。

一定要維護(hù)好鍍槽的化學(xué)鍍鎳溶液,需要被鍍的零件的材質(zhì)在鍍前一定要搞清楚,分析一下它對(duì)鍍槽溶液有什么影響,對(duì)溶液有沒(méi)有危害,確定零件對(duì)溶液安全后,方可開(kāi)始工作。在施鍍過(guò)程中,不要隨便將鍍件放進(jìn)溶液中,要將表面處理干凈，沒(méi)有油污以及鐵銹等，如果直接放入會(huì)污染化學(xué)鍍鎳溶液，影響產(chǎn)品質(zhì)量。

化學(xué)鍍鎳是用還原劑把溶液中的鎳離子還原沉積在具有催化活性的表面上?；瘜W(xué)鍍鎳可以選用多種還原劑，目前工業(yè)上應(yīng)用普遍的是以次磷酸鈉為還原劑的化學(xué)鍍鎳工藝，其反應(yīng)機(jī)理，普遍被接受的是“原子氫理論”和“氫化物理論”。

鎳封是在一般光亮鎳液中加入直徑在0.01~~1um之間的不溶性固體微粒(Sio2等)﹐在適當(dāng)?shù)墓渤练e促進(jìn)劑幫助下﹐使這些微粒與鎳共沉積而形成復(fù)合鍍鎳層。當(dāng)在這種復(fù)合鍍鎳層表上沉積鉻層時(shí)﹐由于復(fù)合鍍鎳層表面上的固體微粒不導(dǎo)電﹐鉻不能沉積在微粒表面上﹐因而在整個(gè)鍍鉻層上的形成大量微孔﹐即形成微孔鉻層。

化學(xué)工業(yè)應(yīng)用研究化學(xué)鍍鎳技術(shù)代替昂貴的耐蝕合金以解決腐蝕問(wèn)題，以便改進(jìn)化學(xué)產(chǎn)品的純度，保護(hù)環(huán)境，提高操作安全性和生產(chǎn)運(yùn)輸?shù)目煽啃?，從而獲得更有利的技術(shù)經(jīng)濟(jì)競(jìng)爭(zhēng)能力。