影響鍍膜機磁控靶點火電壓的因素有哪些

靶材對點火電壓的影響

(1)陰極靶材的不同材質，因濺射的能量閥值的不同，一般濺射“逸出功”較小的陰極靶材，其點火電壓和工作的電壓要低一些，反之則會高一些。(2)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵等)和鐵素體靶材，會偏轉和減少陰極濺射靶面磁場對磁控靶造成影響。靶面磁場的降低，使磁控靶需要很高的電壓才能點火起輝。(3)點火電壓與磁控靶靶材濺射面積和真空腔體的機械尺寸大小有關。靶材濺射面積大，或是真空腔體的機械尺寸大，相應充入工作氣體的數(shù)量值較多，在同一陰-陽極電壓下，工作氣體例如氣電離出導電正離子和電子亦增多，導致點火電壓下降(在鍍膜時還會造成磁控靶濺射電壓一定程度上的降低)。

磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓

(1)靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點火起輝”用，其峰值電壓大體可分為三擋，即：800V-1KV-1.2(或1.3)KV左右。(2)大約在5KW以下的靶電源輸出空載電壓的峰-峰值Vp-p一般在1~1.3KV左右;5KW以上的靶電源其輸出的空載電壓的峰-峰值Vp-p大約在800~1KV;且電源功率越大,其輸出的空載電壓越接近偏小值。(3)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵)以及其它鐵素體靶材，在選用靶電源輸出的空載電壓時，須選擇靶電源輸出空載電壓峰-峰值Vp-p范圍的偏大數(shù)值。

鍍膜設備類型：

—空氣：(1)進口和出口區(qū)配備動態(tài)鎖定輥系統(tǒng)，確保帶材不間斷運動(2)帶材緩沖器、連接和分離裝置以及放置于鍍膜機前、后端大氣中的放卷機和收卷機，以保證連續(xù)生產(chǎn)(3)生產(chǎn)周期僅受限于靶材/真空腔體內蒸發(fā)物儲存量

—分批式：(1)真空工藝區(qū)入口和出口處連接的卷軸裝載鎖定腔體，使用帶材閥隔開(2)可在不中斷工藝真空的前提下裝載和卸載卷軸(3)生產(chǎn)周期為1卷軸的時間，然后停止，進行卷軸更換；帶材廢料長度約為工藝部分的兩倍(4)電子束工藝配備額外的檔板，用以補償卷軸更換

鍍膜模式：單面鍍膜：(1)所有鍍膜工具均位于帶材的一側(2)使用電子束(EB)工藝時，（一般情況下）帶材的底側將被鍍膜雙面鍍膜：(1)鍍膜工具均位于帶材的一側，卷材改變走帶方向(2)需要二次鍍膜與傳動裝置配備

非接觸式鍍膜選項針對敏感的光學鍍膜，提供非接觸式機器概念。

真空鍍膜機實驗專用設備的主要用途真空鍍膜技術分析

真空鍍膜機實驗專用設備主要用于大專院校、科研單位、實驗和研制之用。根據(jù)工藝要求研究出不同種類、不同規(guī)格、多功能的實驗裝置，或為某產(chǎn)品需要特研制的專用設備。

本公司從事真空鍍膜機設計生產(chǎn)，有著豐富的鍍膜技術及設備的設計制造經(jīng)驗。是集設備生產(chǎn)與技術服務于一體的高科技企業(yè)。本司提供多種型號多弧，磁控，中頻離子真空鍍膜機，并可為客戶量身訂制專用型號真空鍍膜機并提供從設備制造、安裝調試到生產(chǎn)工藝的一站式服務。本公司生產(chǎn)的系列裝搭生產(chǎn)線、系列高低溫、燃油、電熱烘干箱、系列環(huán)保噴臺等產(chǎn)品的單位。廣泛用于汽配、摩配、鞋業(yè)、工藝品、電器、機械等。是電鍍、電泳、噴漆、噴塑行業(yè)中不可缺少的設備。

磁控濺射鍍膜機的工作原理是怎樣的？公司擁有一支從事多年表面處理設備設計、并具有實踐經(jīng)驗的技術隊伍及優(yōu)良素質的施工隊伍。為滿足技術的不斷進步及參與大型電鍍工程涂裝工種的建設，我公司與全國多名有時間經(jīng)驗的工程師及電鍍添加劑骨干企業(yè)保持著密切技術聯(lián)系與合作，可以針對客戶要求，提供表面處理工藝及設備設計，提供設備的制造、安裝、調試及的售后服務。

鍍膜機真空機械選擇

鍍膜機真空機械選擇 鍍膜機真空機械選擇，真空泵在其工作壓強下，應能排走真空設備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。 ⑴真空泵工作時產(chǎn)生的振動對工藝過程及環(huán)境有無影響。若工藝過程不允許，應選擇無振動的泵或者采取防振動措施?！?⑵了解被抽氣體成分，氣體中含不含可凝蒸氣，有無顆?；覊m，有無腐蝕性等。選擇真空泵時，需要知道氣體成分，針對被抽氣體選擇相應的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體，應該考慮在泵的進氣口管路上安裝輔助設備，如冷凝器、除塵器等。